多晶材料超过150毫米，单晶超过120毫米的研发或是批量需求的氟化钙。

ICC-Raman：1W激光器下，193nm 及以上无荧光，广泛应用于荧光光谱仪。

ICC-E：内部透过率高，光能损失小，应用于EXCIMER的193/248/355准分子激光器。

ICC-UV：应用于200-400nm紫外透镜上。

ICC-VISIR：应用于波段400-10000nm 等红外及可见波段。

ICC- LS：低应力高均匀性材料，平均应力值小于2NM，最大应力值小于15NM，广泛应用于显微镜物镜及精密成像镜头上。

ICC有IR（高透）/闪烁（低成本）的氟化钡，应用在高能物理，多光谱相机，红外测温及热成像领域。

具有光谱宽、供应量大、价格低等优点，可以作为窗口片、平片、球罩、透镜、棱镜等，在FTIR，LWIR，超光谱相机等领域有广泛的应用。

MgF₂-E：193nm / 248nm / 355nm的准分子，均匀性极好，无小角晶界；

MgF₂-PS：PID 10.6eV和频谱分析仪能量损失小，光能稳定；

MgF₂-W：波片，定向精度高，无小角晶界，应力低；

MgF₂– V：应用于紫外线/红外光源，真空视口，镜头，棱镜等；

MgF₂-H：热压，主要用于做球罩；

ICC 有紫外及深紫外等级的氟化锂， 可应用于极紫外光源，led面板镀膜，紫外探测及传感等。

LIF的水溶性很强，对光学加工和存储要求都很严格，常常会发生解离现象，所以抛光片的存档多用于镀保护膜。

本征凭借超过10年的加工经验，可以达到LIF加工的高精度和低崩边要求，更好的满足了市场的需求。

本征的硅目前有三种等级，并得到客户的广泛好评

SI-MIRROR等级：单晶，主要应用于各种高低功率激光器的反射振镜，为标准形状或客户定制形状，典型为：无透过率要求

SI-OPTICAL等级：单晶，主要应用于光学透镜，滤光片，棱镜等红外测温及成像用途，典型为：透过率要求较高

SI-Wafer等级：单晶，主要应用于半导体，IGBT模块，二极及三级管上，典型为：电阻控制极其严格