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  • 氟化钙 (CaF2)
    氟化钙 (CaF2)

    ICC-Raman:1W激光器下,193nm 及以上无荧光,广泛应用于荧光光谱仪。

    ICC-E:内部透过率高,光能损失小,应用于EXCIMER的193/248/355准分子激光器。

    ICC-UV:应用于200-400nm紫外透镜上。

    ICC-VISIR:应用于波段400-10000nm 等红外及可见波段。

    ICC- LS:低应力高均匀性材料,平均应力值小于2NM,最大应力值小于15NM,广泛应用于显微镜物镜及精密成像镜头上。

  • 氟化钡(BaF2)
    氟化钡(BaF2)

    ICC有IR(高透)/闪烁(低成本)的氟化钡,应用在高能物理,多光谱相机,红外测温及热成像领域。

    具有光谱宽、供应量大、价格低等优点,可以作为窗口片、平片、球罩、透镜、棱镜等,在FTIR,LWIR,超光谱相机等领域有广泛的应用。

     

     

  • 氟化镁(MgF2)
    氟化镁(MgF2)

    MgF2-E:193nm / 248nm / 355nm的准分子,均匀性极好,无小角晶界;

    MgF2-PS:PID 10.6eV和频谱分析仪能量损失小,光能稳定;

    MgF2-W:波片,定向精度高,无小角晶界,应力低;

    MgF2– V:应用于紫外线/红外光源,真空视口,镜头,棱镜等;

    MgF2-H:热压,主要用于做球罩;

  • 氟化锂(LiF)
    氟化锂(LiF)

    ICC 有紫外及深紫外等级的氟化锂, 可应用于极紫外光源,led面板镀膜,紫外探测及传感等。

    LIF的水溶性很强,对光学加工和存储要求都很严格,常常会发生解离现象,所以抛光片的存档多用于镀保护膜。

    本征凭借超过10年的加工经验,可以达到LIF加工的高精度和低崩边要求,更好的满足了市场的需求。

     

     
  • 硅材料(Si)
    硅材料(Si)

    本征的硅目前有三种等级,并得到客户的广泛好评

    SI-MIRROR等级:单晶,主要应用于各种高低功率激光器的反射振镜,为标准形状或客户定制形状,典型为:无透过率要求

    SI-OPTICAL等级:单晶,主要应用于光学透镜,滤光片,棱镜等红外测温及成像用途,典型为:透过率要求较高

    SI-Wafer等级:单晶,主要应用于半导体,IGBT模块,二极及三级管上,典型为:电阻控制极其严格

  • 锗材料(Ge)
    锗材料(Ge)

    本征提供光学锗的坯材加工,成品元件加工,及镀膜服务,可以满足您的各种需求。