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氟化锂(LiF)

氟化锂(LiF)

product description

ICC 有紫外及深紫外等级的氟化锂, 可应用于极紫外光源,led面板镀膜,紫外探测及传感等。

LIF的水溶性很强,对光学加工和存储要求都很严格,常常会发生解离现象,所以抛光片的存档多用于镀保护膜。

本征凭借超过10年的加工经验,可以达到LIF加工的高精度和低崩边要求,更好的满足了市场的需求。

 

 

Applications :

Product Advantage :

氟化锂用于真空紫外线、紫外线、可见光和红外线中的窗口、透镜和棱镜,这些地方要求透过率在0.15µm-6µm之间,应采取适当的预防措施,以防潮气和高能辐射损坏。LiF在400°C时会受到大气水分的侵蚀,并在600°C时会软化LiF对热冲击敏感。这是目前最好的VUV发射器。

氟化锂材料:

本征提供最大尺寸D100的单晶LiF和D150毫米的多晶LiF。方向可以为100,111,200等。

 

Product Parameters :

光学特性

透过范围

0.105 – 7.4mm

透过率

 

折射率

1.392 @ 0.6μm

1.37327 @ 2.50mm

反射损耗

5.2% @ 0.6μm (双面)

吸收系数[cm-1]

5.9 x 10-3 @ 4.3 μm

物理特性
密度[g/cm3]

2.639

熔点[℃]

848

热导率[W/(m×K)]

11.3 @ 314K

热膨胀系数[10-6/K]

37.0 @ 283K

努氏硬度[kg/mm2]

102 (600g)

比热容[J/(kg×K)]

1562

介电常数

9.0 @ 1MHz

表现弹性极限[MPa]

11.2 (1620 psi)

泊松系数

0.22

化学特性

溶解度

2.7g @ 20℃

分子量

25.9394

结构

立方晶系

解离面

(100)

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