红外多晶，指应用在400NM以后的多个晶胞的结构。 典型特点是有明显的晶界线，晶界线数量大于1条，多是2-4条之间，且数量不可控制。多晶的透过率和单晶相同，化学性能相同，物理方面的机械性能和单晶无明显差别， 但光学的延迟性能方面不如单晶。因为氟化钙的各项同性的特性，及多晶产量较高价格较便宜，所以可以用在保护窗口，单个透镜，或是单个棱镜上，但如果是高功率的激光用途或是一套镜头中的镜片，多是建议用单晶。

本征晶体提供氟化锂透镜毛坯，平凸透镜，棱镜和非球面。采用的工艺为PITECH 抛光和DTM相结合。
透镜最大可以到4寸。

具有优良的光学性能，尤其在深紫外波段。随着近年来深紫外技术的发展，氟化锂晶体以其在深紫外波段高的透过率和短的截止波长受到越来越多的关注。氟化锂是四方晶系，晶体长成时可以为单多晶的料块或是定向生长的单晶体。所以氟化锂也有单晶及多晶的区别。多晶多用来作为保护窗口；单晶可以透镜，棱镜及观察窗。晶体最常用方向为100方向，也有用111方向的。

本征晶体提供氟化锂的镀膜颗粒材料和镀膜靶材材料。主要用于OLED电极镀层及屏幕镀膜层数，尺寸可为1-3或是3-6毫米；也可以是0.1-1毫米；纯度均为4N以上，复核REACH及ROHS标准。氟化锂镀膜靶材则主要为D40-50*50-60毫米的晶体材料，效果和品质更加

氟化镁为四方晶系，特点是各项异性。所以在精密成像及信号传输中必须考虑用单晶。
氟化镁的主解离面为110，但是双折射最小的却是001面。单晶就意味着方向是随机的，可能是110,100,001或是其它方向；这个在实际应用中差别较大。如客户无明确方向要求，则本征晶体均按照方向加工

极紫外的氟化镁材料必须为高纯材料，同时在晶体生长的过程中必须进行气氛控制以获得更高的透过率，同时因为光离子的焊接工序的复杂性，对晶体的方向，微结构，镜片加工和退火要求有着极高的要求。本征目前为此产品的世界最主要供应商，不仅专营材料同时对应用也有深刻见解。