中国氟化物晶体材料、元件供应商；光学硅、锗晶体材料及元件供应商。

从原料到晶体生长、镀膜材料，到晶体、元件、镀膜片，再到光学设计、光学器件，为您提供定制化服务

氟化钙、氟化镁、氟化钡、氟化锂、硅、锗晶体； 各类窗口片、楔角片、棱镜、球面透镜、柱面镜及非球面透镜等光学元件； 光学设计、成套镜片加工； 红外传感产品、特种光纤、闪烁晶体材料；

材料： CaF2 单晶直径：D200 BaF2单晶直径：D190量产，年产可达30吨 MgF2提拉法可提供D200单晶 LiF材料：直径多晶小于D150 单晶小于D100 单晶硅：直径小于D350 单晶锗：直径小于D150 元件： 毛坯片：可完成各类平片、台阶、开孔、异形片切割 直径：D2-D350mm 厚度：0.12-200mm 年产300万片 窗口片加工能力：尺寸：D2-350毫米 厚度：0.12-60mm 年产量：150万片 透镜加工能力：尺寸：D2-320毫米 年产量：180万片 棱镜加工能力：精度:10-5 年产量：30万

CaF2 材料可提供IR&UV材料 生长方法：下降法 晶向：<111>, <100>, <110> 透过波段：0.13 - 10.5µm 透过率：>94% @ 0.13-10.5µm 二次退火应力<6nm/cm BaF2 可提供IR（高透过率）和闪烁（低本底）材料 生长方法：下降法 单晶直径：D190量产，年产可达30吨 晶向：<111>, <100>, <110>; 透过波段：0.15 - 14µm 透过率：>94% @ 0.35-10.8µm MgF2 生长方法：下降法&提拉法 材料特性：无铅 单晶直径：提拉法可提供最大D200单晶 晶向：<100>,<001>及其它; 透过波段：0.12 - 9µm 透过率：> 94% @ 5µm > 85% @ 0.2µm 低应力<2nm/cm 光学均匀性好，折射率变化ΔN<5*10-6 LiF 生长方法：下降法 直径：多晶小于D150 单晶小于D100 晶向：<100>,<111>, <200>; 透过波段：0.105 - 7.4µm 透过率：1.392 @ 0.6μm 1.37327 @ 2.5µm 单晶Si 生长方法：CZ 直径：小于D350 晶向：<111>, <100> 电阻率：5-20Ω/cm 稳定量产>6000Ω/cm 少量工艺>10000Ω/cm 透过波段：1-10µm 30-300µm 纯度：9N 单晶Ge 生长方法：CZ N型 直径：D150 晶向：<111>,<100> 电阻率：5-20Ω/cm 透过波段：1-10µm 30-300µm 纯度：9N 元件： 毛坯片：可完成各类平片、台阶、开孔、异形片切割 毛坯片加工能力：（需确认） 直径：D2-D350mm 厚度：0.12-200mm 年产300万片 窗口片加工能力：尺寸：D2-350毫米 厚度：0.12-60mm 精度：10-5 1/10L@633nm 平行:0.01mm 年产量：150万片 透镜加工能力：尺寸：D2-320毫米 精度：10-5 1/10L@633nm 偏心：0.5’ 年产量：180万片 棱镜加工能力：精度:10-5 1/4L@633nm 角精度:0.5' 年产量：30万

我们产品应用领域广，领域拓展能力强，涉及红外探测及传感、光谱分析及成像、激光模组及系统、工业镜头及机器视觉等多个领域，覆盖军事、航空航天、消防、电力、科研、环保、医疗美容、机械自动化、文化等各行业，已实现70%以上的产品出口美国/欧洲/英国/韩日/中东等60多个国家，受到广大用户的一致好评。