氟化镁为四方晶系，特点是各项异性。所以在精密成像及信号传输中必须考虑用单晶。
氟化镁的主解离面为110，但是双折射最小的却是001面。单晶就意味着方向是随机的，可能是110,100,001或是其它方向；这个在实际应用中差别较大。如客户无明确方向要求，则本征晶体均按照方向加工

极紫外的氟化镁材料必须为高纯材料，同时在晶体生长的过程中必须进行气氛控制以获得更高的透过率，同时因为光离子的焊接工序的复杂性，对晶体的方向，微结构，镜片加工和退火要求有着极高的要求。本征目前为此产品的世界最主要供应商，不仅专营材料同时对应用也有深刻见解。

氟化镁在准分子激光器上透过率高，使用寿命长且光能损失小的特点，被广泛用于氟化氩，氟化氪及氯化氙的准分子激光器上。理论及实验证明越偏向紫外波段的激光对材料要求越高，也就意味着在这三个波段的激光器上用的氟化镁材料是可以不同的。本征作为世界最主要的氟化镁晶体材料供应商，对准分子激光不同波段的材料性能要求了解特别透彻。

晶界应力是指作用于晶粒边界上的应力。在晶界面上，原子排列从一个取向过渡到另一个取向，故晶界处原子排列处于过渡状态。 晶粒与晶粒之间的接触界面叫做晶界。低应力氟化镁是指长度大于40毫米的氟化镁最大应力小于15NM 或是2毫米厚度的最大应用小于3NM。 低应力的获得和晶体的生长工艺，退火工艺，及后期加工和处理均有直接关系

氟化镁因其双折射特性，往往用作消色差胶合波片。本征的氟化镁采用4N级原料，特定的生长和退货工艺，及超精密的切割定向工艺，能更有效减少您波片制造过程的精度控制难度，及在使用中的相位延迟精度。

多晶氟化镁可以为红外多晶或是紫外多晶材料，常常用于保护窗口或是分析仪器传信号的透镜，或是镀膜靶材。但多晶氟化镁不能用作透镜，因为其双折射特性，会在聚焦时产生2个或多个像。